nanoArchR P150 系统简介
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
工业级3D打印系统
nanoArch P150是工业级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
工业级3D打印系统
nanoArch P150是工业级3D打印系统，拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArchR P150 系统性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏树脂 |
光学精度
25μm |
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XY打印精度
50~200μm |
打印层厚
10~50μm |
打印样品尺寸
48mm(L)*27mm(W)*50mm(H) |
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样品高度
20mm in typical； |
打印速度
5180~25920mm3/h |
打印文件格式
STL |
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设备功率
2000W |
系统外形尺寸
530(L)*540(W)*700mm(H) |
重量
300kg |
微纳制造 精密必现
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
微纳制造 精密必现
nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
系统特点
独特的供料系统和涂层技术
具有高精度微尺度多材料的打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
配置光学平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
磁性微爪
微流控器件
