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nanoArchR InP160 系统简介
nanoArch InP160是首台工业级的多材料3D打印系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
工业级3D打印系统
nanoArch InP160是工业级3D打印系统，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4D打印等方面。
工业级3D打印系统
nanoArch InP160是工业级3D打印系统，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4D打印等方面。
nanoArchR InP160 系统性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
Multi materials, 4 in Max |
光学精度
50μm |
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XY打印精度
50~200μm |
打印层厚
20~50μm |
打印样品尺寸
96mm*54mm*50mm |
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样品高度
20mm in typical； |
打印速度
5180~25920mm3/h |
打印文件格式
STL |
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电气要求
3000W |
系统外形尺寸
1000(L)*700(W)*1600mm(H) |
重量
300kg |
微纳制造 精密必现
nanoArch InP160是首台工业级的多材料3D打印系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
微纳制造 精密必现
nanoArch InP160是首台工业级的多材料3D打印系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
打印材料
1、硬性树脂（R-160-50系列）
2、柔性树脂（S-160-50系列）
3、韧性树脂（T-160-50系列）
4、掺杂纳米颗粒复合树脂，不保证打印性能
打印材料
1、硬性树脂（R-160-50系列）
2、柔性树脂（S-160-50系列）
3、韧性树脂（T-160-50系列）
4、掺杂纳米颗粒复合树脂，不保证打印性能
系统特点
独特的供料系统和涂层技术
具有高精度微尺度多材料的打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
配置光学平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
Stackable Adapter
Nozzle
Micro Vascular Stent
负热膨胀多材料样件
