开启微纳3D精密制造之门

nanoArchR P150 系统简介

nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

微纳3D打印先行者和领导者

作为微纳3D打印先行者和领导者,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。

科研级3D打印系统

nanoArch P150是科研级3D打印系统,拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚,具备优良的光源稳定性,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
科研级3D打印系统

科研级3D打印系统

nanoArch P150是科研级3D打印系统,本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统,兼顾高精度和多材料打印,可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印,适用于基础理论验证及原理创新研究,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控,多材料4D打印等方面。

nanoArchR P150 系统性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

25μm

XY打印精度

50~200μm

打印层厚

10~50μm

打印样品尺寸

48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)

打印文件格式

STL(单材)

系统外形尺寸

530mm(L)×540mm(W)×700mm(H)

重量

300kg

电气要求

200~240V AC,50/60HZ,2KW

其他要求

部分工艺可选配加速模块及涂层模块

设备功率

2000W

微纳制造 精密必现

nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)

微纳制造 精密必现

nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻技术(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

打印材料

通用型

丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。

个性化

高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。

系统特点

独特的供料系统和涂层技术

具有高精度微尺度多材料的打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置光学平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化

应用案例

微流控器件

微流控器件

展示样件

展示样件

磁性微爪

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