微纳3D打印系统

nanoArch® 是采用PμSL(面投影微立体光刻)技术,用于实现高精度
微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化,
逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。

设备系列

设备匹配材料

摩方能够提供多种高性能3D打印材料:405nm固化波段的通用型光敏树脂,可支持硬性树脂、韧性树脂、耐高温树脂、生物兼容树脂、耐候性树脂、陶瓷浆料等,可根据打印样品的要求选配不同材料;
摩方拥有专业的3D打印材料研发团队,能够根据具体打印的产品开发适合的打印工艺,更好的呈现出样品的设计。

产品特性

可定制高定位精度的光学系统和运动平台,两者最高分辨率皆可达到20μm。

采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。

通过工艺技术控制,实现3D打印成品的表面光滑。

光学方面:光学实时监控,实现自动对焦及曝光补偿;

软件系统:nanoArch图形界面控制系统,参数端口开放。

使用环境要求

客户案例