语言：
nanoArchR P140 系统简介
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch P140是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
科研级3D打印系统
nanoArch P140是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArchR P140 系统性能
|
光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏树脂 |
光学精度
10μm |
||
|
XY打印精度
10~ 40μm |
打印层厚
10~40μm |
打印样品尺寸
19.2mm（L）*10.8mm（W）*45mm（H） |
||
|
打印文件格式
STL |
系统外形尺寸
1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 |
机器外形尺寸
600mm(L)×580mm(W)×750(H)mm3 |
||
|
重量
300kg |
电气要求
200~240V AC,50/60HZ,3KW |
其他要求
部分工艺可选配加速模块及涂层模块 |
||
注：①、样品高度典型10mm，最高45mm
微纳制造 精密必现
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
微纳制造 精密必现
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
405nm固化波段的光敏树脂材料 ，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，4D打印树脂，生物医疗树脂等，需适配不同的工艺和模型，不保证打印性能
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
405nm固化波段的光敏树脂材料，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，4D打印树脂，生物医疗树脂等，需适配不同的工艺和模型，不保证打印性能。
系统特点
高精度
（140系列的10μm）
低层厚
（5μm~20μm的打印层厚效果对比）
点击查看
光学监控系统，自动对焦功能
配置气浮平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
三维点阵模型
三维点阵模型
生物支架
生物支架
唐代佛像
微缩艺术品-无锡玉飞凤
微型阵列
