nanoArchR P140 系统简介
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
3D打印系统
nanoArch P140是3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
3D打印系统
nanoArch P140是3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArchR P140 系统性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏树脂 |
光学精度
10μm |
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XY打印精度
10~ 40μm |
打印层厚
10~40μm |
打印样品尺寸
19.2mm（L）*10.8mm（W）*45mm（H） |
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打印文件格式
STL |
系统外形尺寸
1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 |
机器外形尺寸
650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 |
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重量
300kg |
电气要求
200~240V AC,50/60HZ,3KW |
其他要求
部分工艺可选配加速模块及涂层模块 |
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设备功率
2000W |
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注：①、样品高度典型10mm，最高45mm
微纳制造 精密必现
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
微纳制造 精密必现
nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻技术（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
打印材料
高强度材料（GR/HTL）
非常适合高强度产品快速原型
（prototype）打印和制造，强度接近工程材料PC。
韧性材料（HEK/HD/UTL）
性能类似ABS材料，适合有卡扣等有装配关系的原型结构件加工和测试。
耐高温材料(HTL)
热变形温度142℃（@0.45MPa），适用于高温环境下使用，例如医疗器械高温消毒等应用。
生物相容性材料(BIO)
通过了生物相容性认证，适用于食品、牙科和医疗器械等行业。
打印材料
高强度材料（GR/HTL）
非常适合高强度产品快速原型
（prototype）打印和制造，强度接近工程材料PC。
韧性材料（HEK/HD/UTL）
性能类似ABS材料，适合有卡扣等有装配关系的原型结构件加工和测试。
耐高温材料(HTL)
热变形温度142℃（@0.45MPa），适用于高温环境下使用，例如医疗器械高温消毒等应用。
生物相容性材料(BIO)
通过了生物相容性认证，适用于食品、牙科和医疗器械等行业。
系统特点
高精度
（140系列的10μm）
低层厚
（10μm~40μm的打印层厚效果对比）
点击查看
光学监控系统，自动对焦功能
配置气浮平台，提高打印质量
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件
包括抽真空及紫外后固化
应用案例
三维点阵模型
三维点阵模型
生物支架
生物支架
唐代佛像
微缩艺术品-无锡玉飞凤
微型阵列
